高溫快速爐
產(chǎn)品介紹
目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的高精/度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精/度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱，設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)**可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！
反射鏡是具有高稍度曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。
設備優(yōu)勢
1、高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
2、溫度高精/度控制
過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精/確控制樣品的溫度（遠比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精/度。
3、不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單支持遠程協(xié)助系統(tǒng)，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
